本文讨论了基于sem的阴极发光(CL)光谱的基本原理,并证明了它在工艺开发、统计过程控制和故障分析中的有用性。CL光谱学的优势最明显的技术是应用实例所反映的复合半导体光电子学和高电子迁移率晶体管。

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