磁场成像被证明是一个有价值的工具,用于半导体失败分析师和测试工程师。它的一个主要优点是,它不需要样品制备或deprocessing因为磁场通过ICs中使用的大多数材料和设备包。本文讨论了磁场的理论和实际限制成像和映射中演示了其使用电流密度和确定载流导体的位置和深度。

电流密度的映射,深度测量,磁场成像
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2005年
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扫描探针显微镜 半导体晶圆 测试方法评估
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