本文提供了一个实用的概述，能量色散光谱(EDS)及其在半导体器件制造和失效分析中的各种用途。它解释了EDS技术的典型实现方式，比较和对比了不同的方法，并讨论了决定空间和能量分辨率、测量深度、灵敏度、信噪比和易用性的因素。

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x射线探测器 半导体晶圆制造 能量色散x射线光谱学
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