最近的发展自动化的图像采集和计量使用透射电子显微镜(TEM)和扫描透射电子显微镜(STEM)大大提高了速度、精度和可用性控制这些技术先进的半导体器件制造工艺。设备尺寸继续萎缩,这些技术可能需要更换扫描电子显微镜(SEM)的最小临界尺寸(CD)测量。本文描述了使用高通量自动化S / TEM的CD-metrology工作流支持流程开发和控制和解释了自动化样品制备、数据和计量工具提高吞吐量和数据质量。

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