双镜头电子全息术对半导体器件结分析和应变映射

IBM的工程师们开发了一种全息成像技术,称为双镜头电子全息术,提供高空间分辨率和信噪比的前提下尽可能的视野。本文回顾了新方法的基本原理,并提供了一些使用它的例子。第一个例子演示结分析功能的新方法,在一个案例中,有助于解释为什么浅结设备是由source-drain地区。其他例子,双镜头全息术用于应变映射,在一个案例中,研究应变分布在sigma-shaped锗硅设备,而另一个展厅,提供证据表明,应力记忆发生混乱的场效应电晶体source-drain地区的设备。