原子力显微镜一直是一个一致的因素,在过去十年的进展在集成电路纳米探测和失效分析。在此期间,IC分析界采用了许多新的原子力测量技术,包括扫描电导、扫描电容、脉冲电流-电压和电容-电压光谱。最近出现了两种新技术:金刚石探针铣削和静电力显微镜(EFM)。正如本文作者所解释的那样,使用原子力显微镜的金刚石探针铣削是一种有前途的原位、局部、精确地去除IC层的新方法,而主动EFM是一种无损的替代EBAC显微镜的IC分析中开口定位的方法。

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