本文讨论了大面积集成电路脱模的现状，自动化脱模设备发展的最新成就，以及气体辅助蚀刻、离子源替代品、紧凑光谱和高速激光等技术进步的潜在影响。

集成电路自动处理，大面积去层，血浆FIB，扫描电镜成像，光谱学
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样品制备 铣 半导体晶圆制造 二次离子质谱法 扫描电子显微镜
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