本文讨论了共振增强AFM-IR光谱的发展，并证明了其在含纳米尺度蒙皮颗粒和聚酯污染物的硅测试晶圆上的有效性。

原子力显微镜一直是一个一致的因素，在过去十年的进展在集成电路纳米探测和失效分析。在此期间，IC分析界采用了许多新的原子力测量技术，包括扫描电导、扫描电容、脉冲电流-电压和电容-电压光谱。最近出现了两种新技术:金刚石探针铣削和静电力显微镜(EFM)。正如本文作者所解释的那样，使用原子力显微镜的金刚石探针铣削是一种有前途的原位、局部、精确地去除IC层的新方法，而主动EFM是一种无损的替代EBAC显微镜的IC分析中开口定位的方法。

本文介绍了聚焦离子束(FIB)技术如何与各种其他分析工具结合使用，用于MEMS器件的失效和良率分析。它提供了实例说明FIB如何与TEM分析，AFM分析，扫描声学显微镜和扫描激光显微镜一起使用。