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先进的缺陷隔离利用图像强度分析

James j . Demarest,Derren邓恩,乍得街,Yun-Yu王
摘要技术文章(2007)9 (2):14 - 18。
DOI: https://doi.org/10.31399/asm.edfa.2007 - 2. p014
发表:2007年5月01
文摘
图像增强已被证明有助于定位缺陷ICs。本文讨论了两个图像分析技术,图像对比和强度分析,并展示他们如何揭示缺陷,否则被错过。
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