本文重点介绍了高溅射速率动态二次离子质谱(SIMS)在深度剖面和体杂质分析中的原理和应用。它首先概述了与溅射有关的各种因素。接着讨论了离子注入和电子激发对溅射材料电荷的影响。然后回顾了SIMS的各种仪器组件的设计和操作。详细介绍了SIMS的深度剖析分析，SIMS数据的定量分析以及飞行时间SIMS的静态操作模式。介绍了二次离子成像所需的仪器特征，并描述了四极杆和高分辨率磁质滤波器之间的差异。本文还综述了非金属样品分析的最佳方法和SIMS的高检测灵敏度。最后讨论了SIMS应用程序的各种示例。