本文讨论了用于分析塑料表面化学的扫描电子显微镜、原子力显微镜、x射线光电子能谱和二次离子质谱的工作原理、优点和局限性。

本文重点介绍了高溅射率动态二次离子质谱(SIMS)在深度分析和体杂质分析中的原理和应用。本文首先概述了与溅射有关的各种因素。接着讨论了离子注入和电子激发对溅射种电荷的影响。然后对SIMS的各种仪器组件的设计和操作进行了回顾。详细介绍了模拟人生的深度剖面分析，模拟人生数据的定量分析，以及飞行时间模拟人生的静态操作模式。提出了二次离子成像所需的仪器特征，并描述了四极和高分辨率磁质量滤波器之间的差异。本文还综述了非金属样品分析的最佳方法和高灵敏度的SIMS检测方法。最后讨论了各种SIMS应用程序的示例。

本文重点介绍了用于评估医疗器械部件表面物理形态和化学性质的表征方法的操作模式、物理基础、样品要求、表征的性质、优点和局限性。这些方法包括光学显微镜、扫描电子显微镜、原子力显微镜、能量色散x射线能谱、俄歇电子能谱、二次离子质谱、x射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱和拉曼光谱。

本文侧重于损伤材料的视觉或宏观检查以及损伤和断裂特征的解释。用于评估腐蚀和磨损损伤特征的分析工具包括能量色散谱、电子探针微分析、俄歇电子能谱、二次离子质谱和x射线粉末衍射。本文讨论了基材组成和微观结构的分析和解释。文中还讨论了失效分析中金相试样的制备和检验。文章最后对聚合物和陶瓷材料在失效分析中的评价进行了综述。

本文通过俄歇电子能谱(AES)、x射线光电子能谱(XPS)和飞行时间次级离子质谱(TOF-SIMS)提供了表面化学表征的信息。它描述了每种技术背后的基本理论、每种技术产生的数据类型以及一些典型的应用程序。本文根据从微腐蚀的不锈钢板表面获得的数据，解释了AES、XPS和TOF-SIMS的强度。

涂层和薄膜可以用表面分析方法进行研究，因为它们固有的小深度可以表征表面成分、界面成分和成分的深度分布。本文介绍了常用的表面分析方法俄歇电子能谱、x射线光电子能谱、离子散射能谱、二次离子质谱和卢瑟福后向散射能谱的原理和实例。它还提供了有关表面分析应用的有用信息。

在二次离子质谱(SIMS)中，聚焦离子的高能束被指向高或超高真空(UHV)环境中的样品表面。从撞击的初级离子到样品表面的动量转移引起表面原子和分子的溅射。本文着重介绍了高溅射率动态SIMS在深度分析和体杂质分析中的原理和应用。它提供了关于宽束仪器，离子微探针和离子显微镜的信息，详细说明了它们的系统组件和插图。本文以图解的方式说明了各种材料的SIMS光谱和深度剖面。讨论了离子注入谱的定量分析、二次离子成像所需的仪器特征、非金属样品的分析、检测灵敏度以及SIMS的应用。

场离子显微镜(FIM)可用于研究材料的三维结构，如金属和半导体，因为连续的原子层可以通过场蒸发从表面电离和去除。通过场蒸发从表面除去的离子可以通过与显微镜耦合的单粒子灵敏度的飞行时间质谱仪(称为原子探针(AP))进行化学分析。本文介绍了FIM的原理、样品制备和定量分析。它还提供了原理，仪器设计和操作，质谱及其解释，和应用的AP微量分析的信息。