章历史

EDFAS金门分会为专注于电子器件、材料科学和相关分析艺术的电子行业专业人员提供了一个教育和知识共享的技术论坛。

我们的分会服务于加州，每年在加州的旧金山/硅谷/湾区举办多次会议。远在内华达州和南加州的EDFAS成员都来参加每月的会议。我们随时欢迎客人来参加会议。联系sandrad@nanolab1.com要添加到电子邮件列表中。

最近……

2011年10月，“40nm及以下集成电路的后处理”李元静，NVIDIA公司

2011年9月，Mike Kundmann博士“纳米尺度的定量成分映射与EELS”

2011年8月“铜线键合分立功率MOSFET的可靠性与失效分析”Arthur Chiang和Wu Huixian, Vishay Siliconix

2011年7月，“电力过度压力，下一个‘讨厌的项目’”里奥·g·亨利博士

2011年6月“纳米探针入门”Peter Harris, Multi-Probe总经理

2011年5月，“一种新的基于扫描的故障分析工具箱缺陷隔离技术”Ralph Sanchez, Teseda公司

2011年4月，“FIXXTEM在sub 50nm特征尺寸时代的三重挑战”Bryan Tracy，材料表征实验室，Spansion

2011年3月，“聚焦离子束实现先进封装的特定位置分析”，Richard Young, FEI公司

2011年2月，“用于高分辨率x射线纳米和微分析的微热量计能量色散光谱仪”Robin Cantor, STAR冷冻电子学